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真空鍍膜設(shè)備

科技創(chuàng)新為動力 專業(yè)服務(wù)為目標(biāo)

光學(xué)鍍膜機


  觀察光學(xué)鍍膜機靶陰極電弧的燃燒情況,每當(dāng)電弧熄滅前,能發(fā)現(xiàn)電弧弧斑比較粗糙。有時甚至出現(xiàn)堆團狀弧斑。熄滅后觀察靶面已發(fā)紅,靶表面溫度很高。粗糙弧斑的出現(xiàn),使弧電流較集中于靶面一點,導(dǎo)致了弧斑下靶面斑點電流過于集中,使弧斑下的靶面溫度很高而產(chǎn)生大量的熱電子發(fā)射。
  靶面局部大量的熱電子發(fā)射的結(jié)果,一方面中和了大量的空間電荷,使陰極表面上的電場成為減速場,甚至導(dǎo)致陰極表面上的電場等于零。另一方面,大量的熱電子發(fā)射對陰極表面產(chǎn)生相當(dāng)大的冷卻作用。結(jié)果既沒有空間電荷產(chǎn)生的很大電場來維持表面發(fā)射,也不具備很高表面溫度來產(chǎn)生熱電子發(fā)射,導(dǎo)致電弧的熄滅。
  所以在光學(xué)鍍膜機多弧靶源的設(shè)計中,應(yīng)注意給陰極靶以充分的冷卻,盡量采用直接水冷,間接水冷時,陰極座等相鄰部件應(yīng)選用導(dǎo)熱性能良好的材料(如銅、鋁等)。

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