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       多弧離子鍍膜機是近年新開發的真空離子鍍膜技術，利用真空狀態下弧光放電原理的離子鍍膜技術，是先發展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高快，結合牢固，設備運行穩定等優點，我公司在傳統多弧的基礎上，封靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計，提高了離化率，細化顆粒，膜層和基材結合牢固，膜層更加致密，硬度耐磨性提高，適用于鍍制裝飾膜如：金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等，亦可鍍防腐觸膜（如AL、Cr不銹鋼及TIN等）和耐磨膜。膜層與基底結合牢固，適合于手表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模具等。具有很好的發展前景。

設備特性
       生產同期：生產同期短-270sec/1同期（干燥無大量放氣產品條件）
       鍍膜材料：通用于各種金屬鍍膜（鋁、鎳、銅、鉻……等金屬材料）
       鍍膜方式：金屬濺射鍍膜，膜厚分布均勻
       鍍膜品質：亮度高、附著力強
       鍍膜速度：兩個20Kw大功率磁控制濺射電機，可以調動功率來控制鍍膜速度
       除濕能力：真空室內裝有雩下140度以下的低溫冷凍系統，充分吸收濕氣提高真空到達速度
       運營費用：濺射電極是自行開發產品，大大提高了靶材的使用效率
       占地面精：在固定位置進行上料和下料只要很小的操作空間
       操作方法：人機界面可以直觀的進行設置和監控，設有管理密碼無關人員無法更改
       售后服務：設有售后服務中心和配件倉庫，可以快速處理使用中的問題

設備原理圖示
       在適當的真空環境下，接通高壓電源，在蒸發源與基片間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區，基片電極上接直流負高壓，從而形成輝光放電陰極，鍍料氣化原子進入此區域與惰性氣體離子及電子發生碰撞，離化后的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面，將蒸發物或其反應物沉積在積片上。

離子鍍膜原理圖