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       真空鍍膜機是一種利用真空技術在各種材料表面鍍上薄膜的設備。其結構設計特定，主要由真空室、蒸發(fā)源、基片架和真空泵等組成。

       真空室是真空鍍膜機的核心部分，通常采用不銹鋼等金屬材料制成，具有良好的密封性和耐腐蝕性。室內(nèi)設有蒸發(fā)源和基片架，分別用于放置鍍料和待鍍物品。

       蒸發(fā)源是真空鍍膜機的關鍵部件，負責將鍍料加熱蒸發(fā)。根據(jù)不同的鍍料特性，蒸發(fā)源可以采用電阻加熱、電子束加熱等方式。基片架則用于固定和放置待鍍物品，其位置和角度可以調(diào)整，以確保薄膜的均勻沉積。

       真空泵是真空鍍膜機的重要組成部分，負責將真空室內(nèi)的氣體抽出，形成高真空狀態(tài)。根據(jù)不同的工藝需求，可以選擇不同類型和規(guī)格的真空泵。

       綜上所述，真空鍍膜機的結構設計特定，各部件功能明確，協(xié)同工作，共同完成真空鍍膜的過程。